네덜란드 ASML이 개발한 극자외선(EUV) 노광장비. 광원에서 나온 극자외선이 여러 단계의 반사 과정을 거쳐 실리콘 웨이퍼 위에 나노 단위의 회로를 인쇄하다. 7나노 이하 첨단 반도체 제조에는 반드시 이 장비가 필요하다. /ASML
3줄 요약
- 중국 매체가 “미국의 반도체 제재 속에 첨단 EUV 장비를 자체 개발했다”는 보도를 쏟아내자 ‘반도체 분야도 중국에 따라잡히는 것 아니냐’는 우려가 큽니다.
- 하지만 골드만삭스는 “중국 노광장비 기술은 서방과 20년 이상 격차가 난다”고 평가했습니다.
- 런정페이 화웨이 회장도 “미국에 한 세대 뒤처진다”고 봤습니다.